第五十八章丶MAC晶片（1 / 2）

「那就是MAC晶片的灵魂…」

周宇光在头盔里发出一句闷声。

【记住本站域名 追台湾小说就去台湾小说网，t????w????k??????????n????.c????????m????超靠谱 】

三天前，陈江河和周宇光，带着终极版本的GDSII流片数据…

还有苏晚晴亲笔签发的，针对试验线特点调整的几百条详细控制参数的密封函…

搭乘专车，从京城直抵沪城。

苏晚晴已提前一天抵达，坐镇沪城元件五厂的工艺整合中心。

流片前的技术会议，气氛有点紧张。

「苏工！您这版MAC晶片的密度设计太高，金属层堆叠太复杂！」

沪城元件五厂的厂长老宋指着图纸。

「我们试验线的平坦化工艺良率预估最多50%！风险实在太大！」

「50%？」

苏晚晴站在投影前，「宋工，我理解你们的顾虑。」

「但50%是基于你们过去对常规设计的经验。这份密封函里的参数…」

她拿起那份厚厚的文件，「包含了针对你们设备特性，如曝光机镜头畸变丶刻蚀机腔体均匀性的精确补偿值…」

「以及关键层，如多晶矽栅丶接触孔的冗馀设计规则。」

「按这个执行，CMP良率可以推到65%以上。」

「我们通过设计规则，避开了最敏感区域，并增加了容错标记冗馀度。」

苏晚晴走到白板前，拿起笔，飞快地画出几个关键区域的剖面结构图。

标注出补偿参数的具体应用位置和原理。

「看这里，金属层间介质的厚度，我们预留了±10%的波动裕度。」

「通过调整后续化学机械抛光的压力，和时间窗口动态补偿。」

「还有这里，接触孔的尺寸，我们做了负向偏置。」

「配合你们刻蚀工艺的微负载效应特性，实际开孔尺寸反而更接近设计值…」

精确到纳米级的工艺补偿策略！

如同悬崖峭壁上的安全绳！

老宋和几位工艺工程师听得目瞪口呆！

他们从未见过如此深入理解自家产线「脾气」丶并能将设计规则与之完美耦合的方案！

这需要对设备丶材料丶物理化学过程，有着近乎恐怖的洞察力和建模能力！

「可是…万一…」老宋仍有疑虑。

「没有万一。」

苏晚晴语气斩钉截铁，目光扫过全场，「风险，我们共同承担！流片费用，项目组兜底！」

「但机会，只有一次！【星河】正等着这颗心脏！国产晶片能不能在1.5微米站稳脚跟，就看这次了！」

「宋工，你们【708】线，如果不敢啃这个硬骨头，我立刻报给部里，换人！」

老宋看着苏晚晴眼中无形的压力…

看着密封函上密密麻麻却条理清晰的参数…

他一拍桌子：「干了！苏工！按你的方案走！我们【708】线，拼了这条老命，也要把这颗芯子流出来！」

MAC流片战役正式打响！

洁净间成为没有硝烟的战场。

苏晚晴坐镇PIE监控室。

巨大的屏幕上，实时滚动着各工序的工艺参数…

温度丶压力丶时间丶气体流量丶药液浓度。

和在线检测数据…

膜厚丶线宽丶套刻误差。

「黄光区注意！Mask 3加载！曝光剂量下调5%！补偿透镜热畸变！」

「刻蚀3号机！终点检测信号偏移！手动延长刻蚀时间3秒！注意侧壁形貌！」

「离子注入！调整扫描角度！补偿晶圆边缘剂量不足！」